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半導體廢水處理設備

半導體廢水處理設備處理廢水中,需要處理的主要汙染物包括重金屬、有機物、酸堿物質、懸浮固體、氨氮和磷等‌。這些汙染物在半導體生產的不同環節中產生:處理含磷含氟廢水是一個常見的工業環保難題,尤其在電子、光伏、電鍍、磷化工、金屬表麵處理等行業。這類廢水成分複雜、處理難度大,需要專門的設備和技術組合才能達到排放標準(例如,國內《汙水綜合排放標準》一級A要求氟化物≤10mg/L,總磷≤0.5mg/L)。
產品品牌: 康正
價格: 我要詢價
廠商性質: 生產廠家
產品時間: 2025-06-26

產品概述

品牌康正

半導體(ti) 廢水處理設備核心處理工藝與(yu) 設備:

處理含磷含氟廢水通常采用“預處理 + 化學沉澱(核心) + 深度處理(可選) + 汙泥處理"的工藝流程。以下是各環節的關(guan) 鍵設備:

1.  預處理單元:

 調節池:

    設備: 鋼筋混凝土池體(ti) 或鋼製罐體(ti) 、攪拌機(潛水攪拌器或側(ce) 入式攪拌器)、液位計、pH計(可選)。

     作用:均化水質水量,緩衝(chong) 衝(chong) 擊負荷,為(wei) 後續處理提供穩定條件。

   格柵/過濾設備(如需要):

       設備: 機械格柵、籃式過濾器、袋式過濾器等。

      作用:去除大顆粒懸浮物、雜質,保護後續泵和精密設備。

       pH調節池(初調):

      設備: 池體(ti) /罐體(ti) 、攪拌機、pH在線監測儀(yi) 、酸堿加藥係統(計量泵、儲(chu) 藥罐、管道混合器)。

       作用: 將廢水pH調整到適合後續化學沉澱的範圍(除氟常用pH 6-8,除磷常用pH 5-69-10,需根據具體(ti) 工藝確定)。


2.  化學沉澱單元(核心):

      反應池(係列):

          設備: 多個(ge) 串聯的池體(ti) /罐體(ti) (通常分快速混合池、慢速絮凝池)、攪拌機(快混用槳式/渦輪式高速攪拌,絮凝用框式/推進式低速攪拌)。

          作用: 投加化學藥劑,發生沉澱反應,形成氟化鈣、磷酸鈣(羥基磷灰石)或其他金屬磷酸鹽/氟化物沉澱。

      化學加藥係統:

          設備: 儲(chu) 藥罐(石灰乳罐、氯化鈣罐、PAC/PFS罐、PAM罐等)、精密計量泵(隔膜泵、螺杆泵)、管道混合器、流量計、液位計、控製係統。

常用藥劑:

              除氟: 鈣鹽(石灰、氯化鈣)生成CaF₂沉澱;鋁鹽(聚合氯化鋁PAC、硫酸鋁)或鐵鹽(聚合硫酸鐵PFS、三氯化鐵)在除磷同時也有一定除氟效果(生成氟鋁/鐵絡合物沉澱)。

              除磷: 鈣鹽(石灰)生成羥基磷灰石沉澱;鋁鹽(PAC)、鐵鹽(PFS)生成磷酸鐵沉澱。

              絮凝劑: 聚丙烯酰胺(PAM,陰離子或非離子),促進微小絮體(ti) 凝聚成大顆粒礬花。

      沉澱/澄清設備:

          設備:

              斜板/斜管沉澱池: 利用淺池原理加速固液分離,結構緊湊。需配套刮泥機。

              高效沉澱池(如Densadeg, Actiflo等): 結合汙泥回流、微砂加載或高密度沉澱技術,效率更高,占地麵積小。核心設備包括混合區、絮凝區、沉澱分離區、刮泥機、汙泥循環泵(及微砂循環係統)。

   澄清池: 如機械加速澄清池。

          作用: 使化學沉澱反應生成的絮體(ti) (礬花)與(yu) 水有效分離,得到上清液(處理水)和底部汙泥


3.  深度處理單元(根據需要選擇,確保達標):

      活性氧化鋁/沸石吸附塔(針對氟化物):

          設備: 壓力容器(吸附塔)、活性氧化鋁/改性沸石濾料、布水係統、反衝(chong) 洗係統(水泵、儲(chu) 罐)、再生係統(再生液儲(chu) 罐、泵,常用NaOHHSO₄)。

          作用: 當化學沉澱後氟化物仍超標時使用。活性氧化鋁對氟離子有強吸附能力,飽和後可再生。

      反滲透/納濾膜係統:

          設備: 保安過濾器、高壓泵、RO/NF膜元件、壓力容器、清洗係統(CIP)、控製係統。

          作用: 對化學沉澱出水進行深度脫鹽和去除殘餘(yu) 離子(包括氟、磷),產(chan) 水水質好。但投資和運行成本高,產(chan) 生濃縮液需進一步處理。

      離子交換樹脂柱(較少單獨用於(yu) 高濃度氟磷,可作為(wei) 深度處理):

          設備: 離子交換柱、專(zhuan) 用樹脂(如除氟樹脂)、再生係統。

          作用: 去除殘餘(yu) 的氟、磷離子。


4.  汙泥處理單元:

      汙泥濃縮池/罐:

          設備: 池體(ti) /罐體(ti) 、攪拌機(可選)、刮泥機(重力濃縮池)。

          作用: 降低沉澱池排出汙泥的含水率,減少後續處理體(ti) 積。

      汙泥脫水設備:

          設備:

              板框壓濾機: 脫水效率高,泥餅含水率低(可至60%以下),適用於(yu) 粘細汙泥(如化學汙泥),間歇運行。

              廂式壓濾機: 類似板框。

              帶式壓濾機: 連續運行,處理量大,但泥餅含水率相對較高(約78-85%)。

              離心脫水機(臥螺離心機): 連續運行,自動化程度高,密閉性好,但能耗較高,對絮凝劑要求高。

          輔助設備: 汙泥進料泵、絮凝劑製備投加係統(PAM)、衝(chong) 洗水泵、空壓機(氣動設備用)。

      汙泥儲(chu) 存與(yu) 處置:

          設備: 汙泥料倉(cang) 、運輸車輛。

          作用: 儲(chu) 存脫水汙泥,外運進行安全處置(如危廢填埋、建材利用等)。化學沉澱產(chan) 生的含氟汙泥通常屬於(yu) 危險廢物(HW32? 具體(ti) 需鑒定),需按危廢管理。



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